2018/02/08 14:15

花粉、チリ、ほこりから肌を守るメイク下地が新登場

肌ストレスを感じるあなたに株式会社スタジオファンは、多機能メイク下地「HMプロテクトUVベース」を2018年2月1日に発売した。スタジオファンが販売を手掛ける多角的アプローチエイジング+徹底保湿「ヒアルミルフィーユ」シリーズの1つである。

同製品にはUV下地にアレルGプラスと呼ばれるアレルギー物質を不活性化させる成分(モンモリロナイト)が配合されているため、花粉やチリ、ほこりなどのアレルゲンから肌を守ってくれる。アレルGを配合したUV下地は日本初だという。

肌に優しい付け心地薄付きで伸びも良く、長時間つけていても化粧崩れを考える心配はほぼない。肌トーンUPや毛穴カバーなどの補正効果もある。

また、アレルGプラスとともにヒアルロン酸も配合されているので乾燥予防にもなる。同製品を使えば、潤いと透明感のあるつや肌が保たれること間違いないだろう。

低刺激で無香料、無着色、鉱物油、アルコールフリー、紫外線吸収剤も不使用である。365日、安心して使うことができる。さらにSPF30・PA++なので、十分なUV効果も得られるはずだ。

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